|
国家 标准 |
| GB/T 6616-2023 半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法 | 现行 |
| 国际标准分类号（ICS） 77.040 中国标准分类号（CCS） H21 |
英文标题
Test method for resistivity of semiconductor wafers and sheet resistance of semiconductor films—Noncontact eddy-current gauge
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
|
国家 标准 |
| GB/T 6616-2009 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法 | 废止 |
| 国际标准分类号（ICS） 29.045 中国标准分类号（CCS） H80 | 采 |
英文标题
Test methods for measuring resistivity of semiconductor wafers or sheet resistance of semiconductor films with a noncontact eddy-current gauge
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
采标关系
修改 SEMI MF673-1105
|
国家 标准 |
| GB/T 6616-1995 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法 | 废止 |
| 国际标准分类号（ICS） 中国标准分类号（CCS） H21 | 采 |
英文标题
Test method for measuring resistivity of semiconductor silicon or sheet resistance of semiconductorfilms with a noncontact eddy-current gage
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
采标关系
等效 ASTM F673:1990
