化学气相沉积系统(CVD)
主要用途
化学气相沉积系统是用于薄膜制备的设备。广泛应用于半导体、光学涂层等领域,能够通过化学反应制备各类薄膜。
参数指标
温度范围:室温-1200℃;真空度:≤10^-4Pa;气路数量:≥4路;均匀性:≤±3%。
主要样品类型
适用于薄膜材料制备,包括:半导体薄膜、介质薄膜、金属薄膜、碳材料等。
主要实验项目
薄膜沉积、涂层制备、石墨烯制备、纳米结构生长等。
旗下实验室荣誉资质
我司旗下实验室具备CMA资质认定及CNAS认可,具体项目是否在资质认定/实验室认可范围内请与工程师确认。
CMA资质认定证书