主要用途
化学气相沉积系统是用于薄膜制备的设备。广泛应用于半导体、光学涂层等领域，能够通过化学反应制备各类薄膜。
参数指标
温度范围：室温-1200℃；真空度：≤10^-4Pa；气路数量：≥4路；均匀性：≤±3%。
主要样品类型
适用于薄膜材料制备，包括：半导体薄膜、介质薄膜、金属薄膜、碳材料等。
主要实验项目
薄膜沉积、涂层制备、石墨烯制备、纳米结构生长等。
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