主要用途
原子层沉积系统是用于原子级精确控制薄膜厚度的设备。广泛应用于半导体制造、纳米技术等领域，能够实现单原子层精度的薄膜沉积。
参数指标
温度范围：50-400℃；膜厚控制：单原子层；均匀性：≤±1%；循环时间：1-10s。
主要样品类型
适用于精密薄膜制备，包括：高k介质薄膜、阻挡层、保护涂层等。
主要实验项目
超薄薄膜制备、保形沉积、多层结构制备、表面修饰等。
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