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国家 标准 |
| GB/T 6616-2023 半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法 | 现行 |
| 国际标准分类号(ICS) 77.040 中国标准分类号(CCS) H21 |
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国家 标准 |
| GB/T 6614-2014 钛及钛合金铸件 | 现行 |
| 国际标准分类号(ICS) 77.120.50 中国标准分类号(CCS) J31 |
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国家 标准 |
| GB/T 661-2011 化学试剂 六水合硫酸铁(Ⅱ)铵(硫酸亚铁铵) | 现行 |
| 国际标准分类号(ICS) 71.040.30 中国标准分类号(CCS) G62 | 采 |
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国家 标准 |
| GB/T 6619-2009 硅片弯曲度测试方法 | 现行 |
| 国际标准分类号(ICS) 29.045 中国标准分类号(CCS) H80 | 采 |
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国家 标准 |
| GB/T 6618-2009 硅片厚度和总厚度变化测试方法 | 现行 |
| 国际标准分类号(ICS) 29.045 中国标准分类号(CCS) H80 |
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国家 标准 |
| GB/T 6617-2009 硅片电阻率测定 扩展电阻探针法 | 现行 |
| 国际标准分类号(ICS) 29.045 中国标准分类号(CCS) H80 |
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国家 标准 |
| GB/T 6616-2009 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法 | 废止 |
| 国际标准分类号(ICS) 29.045 中国标准分类号(CCS) H80 | 采 |
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国家 标准 |
| GB/T 6611-2008 钛及钛合金术语和金相图谱 | 现行 |
| 国际标准分类号(ICS) 77.120.50 中国标准分类号(CCS) H64 |
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国家 标准 |
| GB/T 6610.5-2003 氢氧化铝化学分析方法 氧化钠含量的测定 | 废止 |
| 国际标准分类号(ICS) 71.060.40 中国标准分类号(CCS) H12 |
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国家 标准 |
| GB/T 6610.4-2003 氢氧化铝化学分析方法 邻二氮杂菲光度法测定三氧化二铁含量 | 废止 |
| 国际标准分类号(ICS) 71.060.40 中国标准分类号(CCS) H12 |