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动态二次离子质谱(Dynamic-SIMS)

原创版权

发布时间:2025-06-04 19:59:55

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来源:中析研究所

动态二次离子质谱(Dynamic-SIMS)
导读:

我们的检测流程严格遵循国际标准和规范,确保结果的准确性和可靠性。我们的实验室设施精密完备,配备了最新的仪器设备和领先的分析测试方法。无论是样品采集、样品处理还是数据分析,我们都严格把控每个环节,以确保客户获得真实可信的检测结果。

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信息概要

动态二次离子质谱(Dynamic-SIMS)是一种高灵敏度的表面分析技术,广泛应用于材料科学、半导体、生物医学等领域。该技术通过聚焦一次离子束轰击样品表面,溅射出二次离子并进行质谱分析,可实现对样品表面及深度的元素和分子组成的高分辨率检测。Dynamic-SIMS检测在产品质量控制、失效分析、污染物鉴定等方面具有重要作用,能够提供纳米级甚至原子级的信息,帮助客户优化生产工艺并确保产品性能。

检测项目

元素分布分析, 深度剖面分析, 表面污染物检测, 同位素比值测定, 分子结构鉴定, 掺杂浓度测量, 界面分析, 薄膜厚度测定, 化学状态分析, 痕量元素检测, 有机成分分析, 无机成分分析, 材料均匀性评估, 氧化层分析, 缺陷分析, 颗粒物来源鉴定, 表面粗糙度评估, 化学键合状态分析, 纳米材料表征, 生物样品元素成像

检测范围

半导体材料, 金属合金, 陶瓷材料, 聚合物, 生物组织, 纳米材料, 薄膜涂层, 电子器件, 催化剂, 玻璃材料, 复合材料, 矿物样品, 环境颗粒物, 医药制剂, 电池材料, 光学材料, 磁性材料, 碳材料, 地质样品, 考古文物

检测方法

静态SIMS分析:用于表面分子结构的定性分析。

动态SIMS深度剖析:通过连续溅射获取元素随深度变化的分布信息。

成像SIMS:通过扫描离子束实现样品表面元素或分子的二维分布成像。

高分辨率质量分析:使用高分辨质谱仪区分质量相近的离子。

多元素同时检测:通过多接收器实现多种元素的同步分析。

同位素比值测定:精确测量样品中同位素的相对丰度。

三维重构分析:结合深度剖析和成像技术实现样品的三维元素分布重建。

定量分析:通过标准样品校准实现元素或分子的定量测定。

表面化学状态分析:检测表面化学键合状态和官能团分布。

微区分析:对样品特定微小区域进行高空间分辨率检测。

痕量元素检测:利用高灵敏度检测ppb甚至ppt级别的痕量元素。

有机分子成像:对样品表面有机分子的空间分布进行可视化分析。

界面扩散分析:研究不同材料界面处的元素扩散行为。

氧化状态分析:测定材料表面氧化层的组成和厚度。

颗粒物来源分析:通过元素组成鉴定颗粒物的来源。

检测仪器

TOF-SIMS飞行时间二次离子质谱仪, NanoSIMS纳米二次离子质谱仪, CAMECA IMS系列, PHI TRIFT系列, Hiden Analytical SIMS工作站, Ion-TOF GmbH SIMS系统, ATOMIKA SIMS仪器, SIMS-Lab系列, Cameca NanoSIMS 50L, Ulvac-Phi SIMS设备, ORSAY Physics SIMS系统, Tescan SIMS解决方案, IONTOF TOF.SIMS 5, Hiden SIMS工作站, Physical Electronics SIMS仪器

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